連続レーザー洗浄機とパルス洗浄機の主な違い

1. 洗浄原理
‌連続レーザー洗浄機‌：レーザー光を連続的に出力することで洗浄を行います。レーザー光は対象物表面に連続的に照射され、その熱効果によって汚れが蒸発またはアブレーションされます。
‌パルスレーザー洗浄機‌：レーザービームはパルス状に出力されます。各パルスのエネルギーは高く、瞬間的な出力も大きいです。レーザーパルスの高エネルギーが瞬間的に照射され、レーザー打撃効果を生み出し、汚れを剥離または破壊します。

2. 適用シナリオ
‌連続レーザー洗浄機‌：塗料、グリース、ほこりなど、表面に付着した軽い汚れの洗浄に適しており、平らな表面の広い範囲の洗浄に適しています。
‌パルスレーザー洗浄機‌：酸化物層、コーティング、溶接スラグなどの洗浄が難しい汚れの加工に適しており、微細な部品や高い表面品質が求められる洗浄作業に適しています。

3. 適用可能な材料
連続レーザー洗浄機：耐熱金属、酸化層、厚いコーティングの除去などに主に使用され、鋼、鉄、アルミニウム、銅などの洗浄に優れた効果を発揮します。
パルスレーザー洗浄機：薄い金属、精密部品、敏感な電子部品など、繊細で熱に敏感な材料の表面洗浄に適しており、基板を損傷しにくいです。

4.洗浄効果
‌連続レーザー洗浄機‌：エネルギーが連続的かつ安定的に出力されるため、効果は比較的安定しており、大規模な連続操作に適しており、対象物の表面に対する洗浄効果は比較的穏やかです。
‌パルスレーザー洗浄機‌：瞬間的に高温・高圧を生成し、物体表面の汚染物質を効果的に除去し、基板への影響が少なく、表面要求の高い物体の洗浄に適しています。

5. 設備コストと操作の難しさ
‌連続レーザー洗浄機‌：設備コストとメンテナンスコストが低く、従来の大規模な産業洗浄ニーズに適しており、操作も比較的簡単です。
‌パルスレーザー洗浄機‌：基板へのダメージをゼロにできるため、設備コストは高くなりますが、微細加工やハイエンドアプリケーションでの精度と効率が向上します。

6. 適用可能なシナリオと利点・欠点のまとめ
‌連続レーザー洗浄機‌：広い面積や平坦な表面の軽い汚れの洗浄に適しており、高効率、簡単な操作、低コストを実現しています。ただし、洗浄効果は比較的低く、微細な部品や高い表面品質が求められる作業には適していません。
‌パルスレーザー洗浄機‌：微細部品や高い表面品質が求められる洗浄作業に適しており、洗浄効果が高く、基板へのダメージが少ない。ただし、設備コストは比較的高く、操作には高度な専門技術が必要となる。

要約すると、連続レーザー洗浄機かパルスレーザー洗浄機のどちらを選択するかは、特定の洗浄ニーズと対象物の表面状態に基づいて決定する必要があります。